13.05.2019 - Kosmetik

Chemische Untersuchungen von Kosmetika - schnell & zuverlässig beim BAV Institut

Chemische Untersuchungen von Kosmetika - schnell & zuverlässig beim BAV Institut

Neben der mikrobiologischen Qualitätssicherung ist die chemische Unbedenklichkeit und Stabilität von zentraler Bedeutung. Dies gilt sowohl für kosmetische Endprodukte als auch für die eingesetzten Rohstoffe.

Das BAV Institut und seine Tentamus-Partnerlabore führen für Sie alle relevanten und gesetzlich vorgeschriebenen chemischen und chemisch-physikalischen Untersuchungen durch. Neben der Gehaltsbestimmung verschiedener Substanzen prüfen wir auch auf Rückstände und Kontaminanten.
Sichern Sie die Qualität Ihrer Produkte! Erfüllen Sie die rechtlichen Vorgaben der VO (EG) Nr. 1223/2009 als auch weiterer Kriterien wie z.B. Öko-Test-Parameter.
 

Wir analysieren für Sie unter anderem folgende Parameter:

  • Konservierungsstoffe
  • allergene Duftstoffe
  • Schwermetalle
  • Pestizide
  • Polycylische aromatische Kohlenwasserstoffe (PAKs)
  • Weichmacher (Phthalate)
  • Mineralölverbindungen MOSH/MOAH
  • Wirksubstanzen wie Tocopherol (Vitamin E), Allantoin, Panthenol und weitere
  • Fettkennzahlen wie Peroxidzahl (POZ), Säurezahl (SZ)
  • Dichte, Viskosität und weitere chemisch-physikalische Parameter

Ihre gewünschte Leistung ist nicht aufgeführt? Kein Problem, fragen Sie uns gerne an, wir kümmern uns und erstellen das für Sie passende Angebot.
 
Im Rahmen unseres Kennenlernangebots können Sie uns und unsere Leistungen im Bereich chemische Analytik einfach mal testen.

Wir bieten Ihnen an:
Senden Sie uns eine Probe und wir analysieren den von Ihnen gewünschten chemischen Parameter mit einem Rabatt von 50% *
 *einmalige Aktion, gültig bis zum 30.06.2019 für einen von Ihnen ausgewählten Prüfparameter

 

Herr Dr. Bernhard Fellenberg steht Ihnen sehr gerne telefonisch unter 0781/96947-194 oder per Mail unter bernhard.fellenberg@bav-institut.de für alle Fragen rund um das Thema chemische und chemisch-physikalische Analytik zur Verfügung.